应用说明
含铬废液的监测
应用行业: 电气电子
产品: pH计/ORP计
应用简介
含铬废液处理工艺中还原反应的监测
电镀厂及某些化学工厂的废水中含有有毒形态的六价铬,如铬酸盐和重铬酸盐。所以,在废水排放前必须通过注入还原剂等的方式除去其中的六价铬。处理工艺分两步完成: 首先,六价铬(CR6+)还原成三价铬(CR3+),三价铬(CR3+)反应生成氢氧化铬沉淀物除去。由于氧化还原电位(ORP)和还原反应速度与pH值密切相关,所以在还原反应过程中需要使用ORP计和pH计进行正确的监控,以注入适量的还原剂。
由于铬和二氧化硫也存在于反应槽中,对传感器有一定的损害,使得pH和ORP测量变得困难。所以推荐启动PH450G分析仪的继电器报警功能,以及简明的ON/OFF控制程序。另外,4-20mA电流输出可直接用于比例控制,或在需要时发送至集散控制系统。FLXA21/PH450G既可以测量ORP值又可以测量pH值。两线制和四线制分析仪测量系统均适用于此应用。测量含铬废水的ORP时需使用金电极。


预期效益
- 连续测量含铬废水的pH/ORP
- 降低运行成本
工艺概述
首先,将以铬酸盐或重铬酸盐形式存在的六价铬还原为三价铬。废水流入反应槽,同时自动注入硫酸,pH计连续测量反应槽中的pH值以达到设定的酸度范围。反应时间只需几分钟,如果要近一步提高反应速度,需要更低pH条件,就要加入较多的酸量。同时测量反应槽内的氧化还原电位(ORP),自动注入二氧化硫(SO2)、硫酸钠(Na2SO4)、亚硫酸钠(NaHSO4),直到ORP值接近280mV。
在第二个反应槽中,加入碱性溶液如氨水或氢氧化钠(NaOH)使pH值增加到8.5,反应生成氢氧化铬。由于槽内液体被搅拌,即使比水重,氢氧化铬也不会沉淀到槽底部。接着,混合液放入沉降槽,三价铬便会沉淀到槽底部,清洁的无铬水流出,进入到下个处理工序。有时会在第二个反应槽中加入常用的凝聚剂,以形成较大的颗粒利于清理泥浆。常用的还原剂有硫酸亚铁、亚硫酸钠、二氧化硫等。
解决方案详情
| 测量系统 | ||
| 两线制/四线制pH/ORP测量系统 | ||
| 传感器/支架 | |||
| KCl可填充式ORP传感器: | OR8EFG-AU-☐☐-TT1-☐*A | ||
| KCl可填充式pH传感器: | PH8EFP-☐☐-TN-TT1-N-☐*A | ||
| 沉入式支架: | PH8HS-PP-☐☐-T-NN-NN*A | ||
| 端子盒(需要时) | |||
| WTB10-PH5(用于两线制系统) | |||
| WTB10-PH3(用于四线制系统) | |||
| 分析仪/变送器: | |||
| 两线制pH/ORP变送器(pH/ORP两输入): | FLXA21-D-P-S-AA-P1-P1-A-N-LA-N | ||
| 配电器(用于两线制系统): | PH201G-A☐*B | ||
| 四线制pH/ORP转换器: | PH450G-A-☐ | ||
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设备
| FLXA21 | ||
| 电源: | 23~40V DC(来自配电器) | |
PH201G配电器(用于两线制系统) |
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| 电源: | 100V: 20~130V DC / 80~138V AC,47~63Hz 220V: 120~340V DC / 138~264V AC,47~63Hz |
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| 功耗: | 24V DC: 约200mA 100V AC: 约7VA 220V AC: 约11VA |
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PH450G |
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| 电源: | 90~264V AC,50/60Hz | |
| 功耗 | 约15VA | |






